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晶圆正面金属化技术FSM

 

由于MOSFET具备高开关切换速度,低输入阻抗与低功率耗损之特性,必须承受大电流,因此使用铜夹焊接 (Clip Bond)加大电流路径来取代金属打线焊接(Wire Bond),会更好的降低导线电阻与RDS(on)。而正面金属化工艺的目的,就是由化镀方式形成UBM,以满足后续封装使用Clip Bond的条件。 

 


化学镀工艺流程

 

1. 铝垫活化(Al Pad Activation);

 

2. 化学镀镍(Ni Plating);

 

3. 镀薄金(Au Plating)或钯金(PdAu Plating)。

 


 

我们的服务优势
1. 量产能力: 8、12inch化学镀;

 

2. 成熟的工艺制程&严格的过程管控;


3. Clip产品全流程工艺满足,提升效率,降低成本。

 


 

正面金属化后图示:

 

 

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